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Tunable hafnium-doped InZnO thin film transistors via plasma-enhanced atomic layer deposition

材料科学 原子层沉积 光电子学 兴奋剂 图层（电子） 钝化 铪 X射线光电子能谱 阈值电压 薄膜晶体管 退火（玻璃） 沉积（地质） 氧化物 氧气 阈下摆动 晶体管 共发射极 钴 空位缺陷 阈下传导 电压 电极
作者
Jiong Liu,Sheng Han,Yu Zhang,Jingxuan Wei,Bojia Chen,Runzhou Li,Pei Yan,Jiangquan Kuang,Xinming Wu,Xinming Wu,Xuefeng Wu,Xuefeng Wu,Rongxu Bai,David W. Zhang,Qingqing Sun,Li Ji,Shen Hu
出处
期刊：Materials Science in Semiconductor Processing [Elsevier BV]
日期：2025-09-13 卷期号：201: 110039-110039 被引量：1
标识
DOI：10.1016/j.mssp.2025.110039
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