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Performance enhancement of InSnZnO thin-film transistors by dual-active-layer architecture with various oxygen flow rates

薄膜晶体管阈值电压材料科学光电子学氧气晶体管同质结溅射偏压电压阈下传导电子迁移率体积流量氧化物电流（流体）阈下摆动纳米技术阈下斜率

作者

Jinbao Su,Yaobin Ma,Yihong Liu,Yiyang Xie

出处

期刊：Microelectronic Engineering [Elsevier BV]
日期：2025-09-09 卷期号：302: 112403-112403 被引量：1

标识

DOI：10.1016/j.mee.2025.112403

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