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Promoting effect of interfacial hole accumulation on photoelectrochemical water oxidation in BiVO4 and Mo doped BiVO4

兴奋剂 材料科学 化学工程 化学 光电子学 工程类
作者
Xiaofeng Wu,F. Palacio,Shixin Chang,Marcus Einert,Qingyang Wu,Clément Maheu,Julia Gallenberger,Chuanmu Tian,Kangle Lv,Jan P. Hofmann
出处
期刊：Advanced powder materials [Elsevier]
日期：2024-09-19 卷期号：3 (6): 100234-100234 被引量：9
链接
doi.org hal.sciencedoi.org
标识
DOI：10.1016/j.apmate.2024.100234
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