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Growth of 0.1(Bi,Na)TiO<sub>3</sub>–0.9BaTiO<sub>3</sub> epitaxial films by pulsed laser deposition and their electric properties

材料科学 脉冲激光沉积 薄膜 居里温度 铁电性 外延 四方晶系 陶瓷 温度系数 沉积(地质) 分析化学(期刊) 电介质 复合材料 光电子学 纳米技术 晶体结构 凝聚态物理 结晶学 物理 化学 生物 古生物学 色谱法 铁磁性 图层(电子) 沉积物
作者
Keisuke Ishihama,Masanori Kodera,Takao Shimizu,Wakiko Yamaoka,Risako Tsurumaru,Shintaro Yoshimura,Yusuke Sato,Hiroshi Funakubo
出处
期刊:Journal of the Ceramic Society of Japan [Ceramic Society of Japan]
卷期号:129 (7): 337-342 被引量:2
标识
DOI:10.2109/jcersj2.21002
摘要

0.1(Bi,Na)TiO3–0.9BaTiO3 thin films were deposited by pulsed laser deposition as a candidate of lead-free thin films with a positive temperature coefficient of resistance for micro-thermistor applications in microelectro mechanical system devices. (001)-oriented epitaxial tetragonal films with a unity (Bi + Na + Ba)/Ti ratio were grown at 675 °C under a total pressure of 50 mTorr. The obtained films showed improved insulating properties and clear ferroelectricity. The Curie temperature was estimated to be 200 °C by the high-temperature X-ray diffraction measurement, which was almost the same as the reported value for the ceramic.
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