Effect of 150 keV Ti+ ion implantation on the structural, optical, and electrical properties of nonstoichiometric WO2.72 thin films

材料科学 薄膜 光致发光 电阻率和电导率 通量 离子注入 带隙 分析化学(期刊) 蒸发 氧化锡 兴奋剂 离子 光电子学 纳米技术 化学 物理 有机化学 色谱法 电气工程 热力学 工程类
作者
Kriti,Puneet Kaur,Surbhi Chalotra,Razia Nongjai,Indra Sulania,Asokan Kandasami,D.P. Singh
出处
期刊:Materials Research Bulletin [Elsevier BV]
卷期号:145: 111566-111566 被引量:4
标识
DOI:10.1016/j.materresbull.2021.111566
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