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TiO2 Coating for SnO2:F Films Produced by Filtered Cathodic Arc Evaporation for Improved Resistance to H+ Radical Exposure

薄板电阻 材料科学 薄膜 氧化锡 分析化学（期刊） 蒸发 氧化物 扫描电子显微镜 图层（电子） 复合材料 化学 纳米技术 冶金 色谱法 热力学 物理
作者
Mimoza Ristova,A. Gligorova,Ilija Nasov,Davor Gracin,M. Milun,H. Kostadinova-Boskova,Riste Popeski‐Dimovski
出处
期刊：Journal of Electronic Materials [Springer Nature]
日期：2012-09-05 卷期号：41 (11): 3087-3094 被引量：4
标识
DOI：10.1007/s11664-012-2221-4
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