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Fabrication of Silicon-Oxide Thin Film by Using Ionized Physical Vapor Deposition and Application to Gate Insulators in Transparent Thin-Film Transistors

材料科学 制作 光电子学 薄膜晶体管 薄膜 栅氧化层 化学气相沉积 氧化硅 硅 氧化物 沉积（地质） 晶体管 纳米技术 工程物理 图层（电子） 电气工程 氮化硅 电压 冶金 医学 替代医学 工程类 病理 古生物学 沉积物 生物
作者
Woo‐Seok Cheong,Chi‐Sun Hwang,Jae‐Heon Shin,Sang‐Hee Ko Park,Sung‐Min Yoon,Doo‐Hee Cho,Min‐Ki Ryu,Chun‐Won Byun,Shinhyuk Yang,Hye Yong Chu,Kyoung Ik Cho
出处
期刊：Journal of the Korean Physical Society [Springer Science+Business Media]
日期：2009-01-15 卷期号：54 (9(5)): 473-477 被引量：1
标识
DOI：10.3938/jkps.54.473
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