Dependence of radiative efficiency and deep level defect incorporation on threading dislocation density for InGaN/GaN light emitting diodes

发光二极管 材料科学 光电子学 位错 量子效率 二极管 电致发光 宽禁带半导体 晶体缺陷 无辐射复合 半导体 凝聚态物理 纳米技术 物理 半导体材料 图层(电子) 复合材料
作者
Andrew Armstrong,T. A. Henry,Daniel Koleske,Mary H. Crawford,Karl Westlake,S. R. Lee
出处
期刊:Applied Physics Letters [American Institute of Physics]
卷期号:101 (16) 被引量:60
标识
DOI:10.1063/1.4759003
摘要

The influence of threading dislocation (TD) density on electroluminescence and deep level defect incorporation in the multi-quantum well regions of InGaN/GaN light emitting diodes (LEDs) was investigated. LED efficiency increased with decreasing TD density. To elucidate the impact of TD density on deep level defect incorporation and resulting radiative efficiency, deep level optical spectroscopy and lighted capacitance voltage measurements were applied to the LEDs. Interestingly, the concentration of all observed deep levels decreased with TD density reduction, but their concentration also varied strongly with depth in the multi-quantum well region. These trends indicate that (1) TDs strongly influence point defect incorporation in InGaN/GaN LEDs and (2) TDs, possibly in conjunction with point defects, are detrimental to LED efficiency.
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