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Heteroepitaxial growth of CaGe2 films on high-resistivity Si(111) substrates and its application for germanane synthesizing

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作者
Kazuya Okada,Shigehisa Shibayama,Mitsuo Sakashita,Osamu Nakatsuka,Masashi Kurosawa
出处
期刊:Materials Science in Semiconductor Processing [Elsevier BV]
卷期号:161: 107462-107462 被引量:1
标识
DOI:10.1016/j.mssp.2023.107462
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