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Inner‐Layer Indium Doping Achieved Highly Active and Stable Sulfur Vacancies in MoS2 for Superior Sulfur Redox Kinetics

材料科学 硫黄 动力学 兴奋剂 氧化还原 图层(电子) 无机化学 化学工程 纳米技术 化学 光电子学 冶金 物理 量子力学 工程类
作者
Qingbin Jiang,Huifang Xu,Kwan San Hui,Yijie Wei,Lingwen Liu,Zhengqing Ye,Chenyang Zha,Mengting Zheng,Jun Lü,Kwun Nam Hui
出处
期刊:Advanced Materials [Wiley]
卷期号:37 (34): e2415986-e2415986 被引量:7
标识
DOI:10.1002/adma.202415986
摘要

Abstract Defect engineering in MoS 2 via sulfur vacancies (Vs‐MoS 2 ) has shown potential in enhancing lithium–sulfur battery (LSB) performance by mitigating the polysulfide shuttle effect. However, the high surface energy of Vs‐MoS 2 impedes long‐term catalyst stability. Herein, indium (In) doping is introduced into the inner layer of Vs‐MoS 2 lattice (In‐Vs‐MoS 2 ), which effectively stabilizes the catalyst by reducing surface energy and enhancing sulfur redox kinetics. Theoretical calculations confirm that In doping, in conjunction with surface vacancies, optimizes charge distribution and generates unpaired electrons near the Fermi level, thus improving polysulfide adsorption and lowering Li 2 S formation barriers. LSBs with In‐Vs‐MoS 2 separators deliver stable cycling at 0.5 C with a favorable capacity of 1042 mAh g −1 retained after 100 cycles. Moreover, even at high current density (5 C) and high S loading (8.7 mg cm −2 ) scenario, stable cycling is realized, demonstrating the strategy's effectiveness in advancing LSB electrocatalysis. This work offers a straightforward strategy for practical LSBs and deepens the understanding of vacancy‐modulated electrocatalysts for sulfur redox.
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