Steric hindrance effect induced photopurification of styrene oxide over surface modified polymeric carbon nitride

苯乙烯氧化物 位阻效应 化学 吸附 苯甲醛 催化作用 苯乙烯 氧化物 活性炭 光化学 无机化学 高分子化学 有机化学 聚合物 共聚物
作者
Meixian Liu,Junliang Liu,Zequan Zeng,Xing Wang,Jianfeng Jia,Xianmo Gu,Zhanfeng Zheng
出处
期刊:Separation and Purification Technology [Elsevier BV]
卷期号:300: 121929-121929 被引量:4
标识
DOI:10.1016/j.seppur.2022.121929
摘要

The key of photopurification, a bran-new technique for substance purification, is selective mineralization by surface modification of photocatalyst. CN/NV-PCN, nitrogen vacancies (NV) and cyano groups (–CN) co-modified polymeric carbon nitride (PCN), selectively photomineralize benzaldehyde (BZ) in industrial styrene oxide (SO) production solution. NV, special O2 adsorption sites, guarantee the activation of O2 to H2O2. –CN, substitutes for hydrogens in terminal amines (–NH2), inhibit H2O2 randomly decomposing to •OH on –NH2 sites. NV and –CN adjust the electronic distribution on triazine ring and H to reinforce π-π interaction and O···HN bond between PCN and SO, narrowing the space between benzene ring and N3C site, in which the steric hindrance effect hinders H2O2 reducing to •OH by e- on N3C site. •OH can only produce at the adsorption sites of BZ, which results the selective mineralization of BZ. This work provides not only a modification method of PCN for selective oxidation reaction, but also a bran-new technique for removing homogeneous trace impurities in natural or industrial products.
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