Performance analysis of metal gate engineered junctionless nanosheet fet with a ft/fmax of 224/342ghz for beyond 5g (b5g) applications

纳米片 材料科学 金属浇口 金属 电介质 电导 纳米技术 分析化学(期刊) 光电子学 化学 电气工程 物理 晶体管 凝聚态物理 电压 冶金 栅氧化层 工程类 色谱法
作者
Sresta Valasa,Shubham Tayal,Laxman Raju Thoutam
出处
期刊:Micro and nanostructures [Elsevier BV]
卷期号:179: 207582-207582 被引量:14
标识
DOI:10.1016/j.micrna.2023.207582
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