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New Concept for the Development of High-Performance X-ray Lithography

平版印刷术 材料科学 X射线光刻 开发（拓扑） 极紫外光刻 纳米技术 计算机科学 工程物理 光电子学 抵抗 物理 数学 数学分析 图层（电子）
作者
Н. И. Чхало
出处
期刊：Russian Microelectronics [Springer Nature]
日期：2024-10-01 卷期号：53 (5): 397-407 被引量：3
标识
DOI：10.1134/s1063739724600511
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