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Edge-induced Selective Etching of bilayer MoS2 Kirigami Structure via Space-Confined method

双层 GSM演进的增强数据速率 蚀刻（微加工） 材料科学 空格（标点符号） 纳米技术 化学 计算机科学 膜 图层（电子） 人工智能 生物化学 操作系统
作者
Weijie Ma,Andrew Keong Ng,Jie Zhu,Yang Guo,Yajing Sun,Lin Li,Dechao Geng
出处
期刊：Nanoscale horizons [The Royal Society of Chemistry]
日期：2025-01-01
链接
nih.govdoi.org
标识
DOI：10.1039/d4nh00561a
摘要
The selective etching process of MoS 2 kirigami structures in different microenvironments, established using a space-confined method.
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