The stability of CuO and Cu2O surfaces during argon sputtering studied by XPS and AES

溅射 X射线光电子能谱 氧化物 离子 单晶 化学 氧化铜 溅射沉积 分析化学(期刊) 材料科学 无机化学 结晶学 冶金 薄膜 化学工程 纳米技术 有机化学 工程类 色谱法
作者
G. Panzner,B. Egert,Harald Schmidt
出处
期刊:Surface Science [Elsevier BV]
卷期号:151 (2-3): 400-408 被引量:223
标识
DOI:10.1016/0039-6028(85)90383-8
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