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Interface roughness effect between gate oxide and metal gate on dielectric property
作者
Jong Yeog Son,
W. J. Maeng,
Woo‐Hee Kim,
Young‐Han Shin,
Hyungjun Kim
出处
期刊:
Thin Solid Films
[Elsevier BV]
日期:2009-02-10
卷期号:517 (14): 3892-3895
被引量:13
链接
ac.kr
doi.org
标识
DOI:10.1016/j.tsf.2009.01.117
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