Optical properties of tin‐doped indium oxide determined by spectroscopic ellipsometry

椭圆偏振法 氧化铟锡 分析化学(期刊) 材料科学 电介质 退火(玻璃) 化学气相沉积 表面粗糙度 兴奋剂 氧化物 薄膜 薄脆饼
作者
Tobias Gerfin,Michael Grätzel
出处
期刊:Journal of Applied Physics [American Institute of Physics]
卷期号:79 (3): 1722-1729 被引量:73
标识
DOI:10.1063/1.360960
摘要

Sputtered tin‐doped indium oxide (ITO) coatings were investigated by UV‐visible spectroscopic ellipsometry at different angles of incidence. The results were fitted using a classical dispersion formula for the optical constants of ITO in a model structure with a compact homogeneous film and a top layer representing surface roughness. Typical values for the high‐frequency dielectric constant e∞ and the plasma frequency ωp were found to be 3.4–4.0 and 0.68–0.96 eV, respectively. The influence of oxidative and reducing annealing at 400 °C was studied. No difference was observed under reducing conditions, but oxygen annealing reduced the influence of the plasma frequency on the studied UV‐visible region significantly. To prove the usefulness of the dispersion formula, TiO2 and Nb2O5 films were grown on ITO by metalorganic chemical vapor deposition using Ti(acac)2(i‐pro)2 and Nb(OEt)5 as precursors. These bilayers were studied by spectroscopic ellipsometry and could be successfully described applying the previ...
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