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Hole Injection Barrier‐Driven Positive Aging Mechanism in Inverted QLEDs

材料科学 光电子学 电子 发光二极管 二极管 俘获 量子点 量子效率 图层(电子) 载流子产生和复合 彭宁离子阱 辐射传输 重组 量子阱 自发辐射 纳米技术 光学 化学 半导体 激光器 物理 基因 生物 量子力学 生物化学 生态学
作者
Yin‐Man Song,Mengwei Wang,Hang Liu,Hui Bao,Ting Ding,Jing Jiang,Peili Gao,Longjia Wu,Xiongfeng Lin,Haizheng Zhong,Kar Wei Ng,Shuangpeng Wang
出处
期刊:Advanced Optical Materials [Wiley]
卷期号:13 (22) 被引量:7
标识
DOI:10.1002/adom.202500986
摘要

Abstract Positive aging is usually observed during the operation of quantum dot‐light‐emitting diodes (QLEDs), which introduces significant challenges for accurate performance assessment and industrial standardization. However, the mechanism of positive aging remains unclear and has long been attributed to the instability of the ZnO‐based electron transport layer. Here, a new operational positive aging mechanism in inverted‐structure QLEDs is reported, primarily driven by trap states at the interface of the hole transport layer (HTL). An elevated hole injection barrier can promote the accumulation of holes and their trapping via defect states, resulting in subsequent non‐radiative recombination. Operational aging induces a progressive reduction in defect‐mediated charge trapping, leading to a marked enhancement in radiative recombination efficiency and the device manifests as positive aging. By employing an insulating layer to spatially isolate the interface between quantum dots and HTL, the non‐radiative recombination of electrons and accumulated holes can be effectively mitigated. Consequently, the positive aging phenomenon is significantly suppressed, and the current efficiency of the fresh device is improved by 240%. These findings elucidate the critical effects of interface properties on carrier dynamics and provide a strategy for achieving optimal device efficiency at the early stage of operation.
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