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Unveiling growth mechanisms of PEALD In2O3 thin films with amide-based versus alkyl-based novel indium precursors

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作者
Gyeong Min Jeong,Hae Lin Yang,Ara Yoon,Yoon-Seo Kim,Sangick Lee,Yong-Hee Kwone,Sangyong Jeon,Young-Jae Im,Jin‐Seong Park
出处
期刊：Journal of Materials Chemistry C [The Royal Society of Chemistry]
日期：2024-01-01 卷期号：12 (28): 10575-10584 被引量：8
标识
DOI：10.1039/d4tc00868e
摘要
New indium precursors based on alkyl and amine ligands make a difference in the properties of indium oxide thin films.
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