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Enhancement of skyrmion density via interface engineering

空中骑兵 材料科学 可控性 退火(玻璃) 凝聚态物理 离子 磁化 薄膜 纳米技术 磁场 物理 复合材料 应用数学 数学 量子力学
作者
Sabpreet Bhatti,Hang Khume Tan,May Inn Sim,V. L. Zhang,M. Sall,Zhenxiang Xing,Roméo Juge,R. Mahendiran,Anjan Soumyanarayanan,Sze Ter Lim,D. Ravelosona,S. N. Piramanayagam
出处
期刊:APL Materials [American Institute of Physics]
卷期号:11 (1) 被引量:7
标识
DOI:10.1063/5.0118147
摘要

Magnetic skyrmions are promising candidates for computing and memory applications. The static and dynamic behaviors of skyrmions are tunable by altering the interfacial magnetic properties. These interfacial magnetic properties are alterable by modifying the interface structure of thin films. However, the relationship between the structural properties of the interface and the skyrmions properties is not straightforward, and a comprehensive insight is required to facilitate better controllability of the skyrmions’ behaviors. Here, we comprehensively understand the relationship between atomic displacements at the interface and skyrmions’ static behavior. In this study, we used ion irradiation to achieve inter-atomic displacements. We observed that the inter-atomic displacements could tailor the physical properties of skyrmions. We noticed a peculiar increase in the magnetization, Dzyaloshinskii–Moriya interaction, and exchange stiffness. The modifications in magnetic properties reduced the domain wall energy, which enhanced the skyrmion density (by six-folds) and reduced the average skyrmion diameter (by 50%). Furthermore, we compared the observed results of ion irradiation with those from the annealing process (a well-studied method for modifying magnetic properties) to better understand the effect of atomic displacements. Our study provides a route to achieve a highly-dense skyrmion state, and it can be explored further to suppress the skyrmion Hall effect for skyrmion-based applications.

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