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Properties and electric characterizations of tetraethyl orthosilicate-based plasma enhanced chemical vapor deposition oxide film deposited at 400°C for through silicon via application

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作者
Meiying Su,Daquan Yu,Yijun Liu,Lixi Wan,Chongshen Song,Fengwei Dai,Kai Xue,Xiangmeng Jing,Daniel Guidotti
出处
期刊:Thin Solid Films [Elsevier BV]
卷期号:550: 259-263 被引量:15
标识
DOI:10.1016/j.tsf.2013.11.002
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