Optimization of gas flow and etch depth uniformity for plasma etching of large area GaAs wafers

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作者
J.W. Lee,Phill Gu Jung,M. Devre,R. Westermann,S. J. Pearton
出处
期刊:Solid-state Electronics [Elsevier BV]
卷期号:46 (5): 685-688 被引量:9
标识
DOI:10.1016/s0038-1101(01)00328-8
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