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Novel TiAlCN/VCN nanoscale multilayer PVD coatings deposited by the combined high-power impulse magnetron sputtering/unbalanced magnetron sputtering (HIPIMS/UBM) technology

高功率脉冲磁控溅射 材料科学 涂层 溅射沉积 溅射 物理气相沉积 腔磁控管 冶金 合金 复合材料 薄膜 纳米技术
作者
P.Eh. Hovsepian,Arutiun P. Ehiasarian,A. Deeming,Christian Schimpf
出处
期刊：Vacuum [Elsevier BV]
日期：2008-04-09 卷期号：82 (11): 1312-1317 被引量：65
标识
DOI：10.1016/j.vacuum.2008.03.064
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