氧化钇稳定氧化锆
立方氧化锆
金属有机气相外延
材料科学
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陶瓷
物理
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量子力学
外延
图层（电子）
作者
Haruo Uyama,Nobuhiro OKA,Isao Ono,Osamu Matsumoto
出处
期刊：Denki kagaku oyobi kōgyō butsuri kagaku
[The Electrochemical Society of Japan]
日期：1990-06-05
卷期号：58 (6): 564-566
被引量：12
标识
DOI：10.5796/kogyobutsurikagaku.58.564
摘要
We have carried out the deposition of the YSZ thin fi■ms from the mixture of tetra-acety■acetonato zirconiu皿 (W) ［(C5H702)4Zr］ and tris(dipyva■oy■一 methanatO) yttrium (皿) ［(CnHlgO2)3Yl， and O2 plasma prepared using microwave discharge． The apparatus used in thiF5 experiment is schematically shown in
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