Process and characterization of (Pb,La)TiO3 thin films deposited by MOCVD for gigabit DRAM application

金属有机气相外延 德拉姆 千兆位 表征(材料科学) 材料科学 薄膜 光电子学 过程(计算) 纳米技术 电子工程 计算机科学 工程类 外延 操作系统 图层(电子)
作者
S.-S. Lee,Y.-M. Kang,J Lee,Dong-Ho Lee,H.-G. Kim
出处
期刊:Journal de physique [Springer Science+Business Media]
卷期号:08 (PR9): Pr9-272
标识
DOI:10.1051/jp4:1998953
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