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Hydrangea-like N-doped Carbon/MoO2@SnS2 microspheres with Schottky contact: A multi-interface heterostructure for high-performance microwave absorption

异质结 材料科学 反射损耗 肖特基势垒 微波食品加热 光电子学 电介质 吸收(声学) 半导体 兴奋剂 三元运算 介电损耗 碳纤维 纳米技术 复合数 复合材料 二极管 电信 程序设计语言 计算机科学
作者
Xiang Zhang,Xiang Zheng,Kai Yao,Xiao Wang,Hao Jiang,Jing li Wang,Wei Lü
出处
期刊:Composites Part B-engineering [Elsevier BV]
卷期号:263: 110858-110858 被引量:55
标识
DOI:10.1016/j.compositesb.2023.110858
摘要

Heterointerface engineering is now recognized as a powerful strategy to optimize the microwave absorption performance of dielectric materials through composition adjustment and structural design. Herein, a hydrangea-like N-doped Carbon/MoO2@SnS2 (NC/MoO2@SnS2) composite was successfully prepared by high-temperature pyrolysis and oil bath treatment. The surface of each NC/MoO2 microsphere was vertically covered with interconnected SnS2 nanosheets, forming a porous core-shell morphology. We found that the number of heterojunctions and the proportion of high-lossy phases played a decisive role in optimizing the electromagnetic parameters. By regulating the content of dielectric phases, the optimized NC/MoO2@SnS2 (S3 sample) displayed a minimum reflection loss (RLmin) of −75.0 dB at an ultrathin thickness of 1.41 mm and a wide EAB of 4.2 GHz at 1.53 mm. The enhanced microwave absorption was mainly ascribed to multiple polarization relaxation, multi-interface reflection and good impedance matching characteristics produced by this semiconductor/carbon heterostructure with dual Schottky barriers. Therefore, this work provided a feasible strategy for making full use of heterointerface engineering to design ternary semiconductor/carbon heterostructures as high-performance dielectric MAMs.
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