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Surface evolution mechanism for atomic-scale smoothing of Si via atmospheric pressure plasma etching

材料科学蚀刻（微加工）大气压等离子体机制（生物学）曲面（拓扑）等离子体大气压力平滑的等离子体刻蚀干法蚀刻比例（比率）原子单位反应离子刻蚀纳米技术化学物理气象学几何学哲学物理认识论量子力学计算机科学数学计算机视觉图层（电子）

作者

Bing Wu,Rong Yi,Xuemiao Ding,T.-Y. Chiu,Quanpeng He,Hui Deng

出处

期刊：Journal of Manufacturing Processes [Elsevier BV]
日期：2024-11-06 卷期号：132: 353-362 被引量：5

标识

DOI：10.1016/j.jmapro.2024.10.080

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