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Direct chemical lithography writing on 2D materials by electron beam induced chemical reactions

平版印刷术 电子束光刻 材料科学 阴极射线 纳米技术 化学反应 模版印刷 化学物理 电子 化学 抵抗 光电子学 物理 有机化学 量子力学 图层（电子）
作者
Iryna Danylo,Lukáš Koláčný,Kristína Kissíková,Tomáš Hartman,Martina Pitínová,Jiří Šturala,Zdeněk Sofer,Martin Veselý
出处
期刊：Nanoscale advances [Royal Society of Chemistry]
日期：2025-01-01 卷期号：7 (7): 2021-2031 被引量：3
链接
doi.org nih.gov nih.govdoi.org
标识
DOI：10.1039/d5na00036j
摘要
Direct electron beam lithography is studied for targeted platinum nanoparticle deposition onto 2D supports, which allows an evaluation of the unique influence of nanoparticle–support interactions on enhanced catalytic activity.
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