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Process–property relationship in high-k ALD SrTiO3 and BaTiO3: a review
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作者
Joon Hyung Shim,
Hyung Jong Choi,
Yunho Kim,
Jan Torgersen,
Jungkwuen An,
Min Hwan Lee,
Fritz B. Prinz
出处
期刊：
Journal of Materials Chemistry C
[Royal Society of Chemistry]
日期：2017-01-01
卷期号：5 (32): 8000-8013
被引量：70
链接
rsc.org
doi.org
标识
DOI：10.1039/c6tc05158h
摘要
This review addresses recent approaches for atomic layer deposition (ALD) that are closely related to the electrical properties of ultrathin SrTiO
3
and BaTiO
3
films.
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