Thermal desorption study on possible hydrogen sources and diffusion barriers in CMOS technology

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作者
Jacopo Remondina,A. Portavoce,M. Bertoglio,Guillaume Roland,F. Lorut,Y. Le Friec,Daniel Benoit,Magali Putero
出处
期刊:Materials Letters [Elsevier BV]
卷期号:337: 133916-133916
标识
DOI:10.1016/j.matlet.2023.133916
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