Effect of CH4 on plasma spheroidization of tantalum powder

材料科学 脱氢 甲烷 氧气 冶金 等离子体 化学工程 化学 有机化学 催化作用 量子力学 物理 工程类
作者
Yiping Wu,Guohua Wang,Taomei Zhang,Dan Li,Jiaqi Zhang,Shijie Liu,Chao Chen,Kechao Zhou
出处
期刊:Powder Technology [Elsevier BV]
卷期号:437: 119523-119523 被引量:1
标识
DOI:10.1016/j.powtec.2024.119523
摘要

In this work, hydrogenation-dehydrogenation tantalum powder was spheroidized by plasma spheroidization to prepare high purity spherical tantalum powder suitable for use in additive manufacturing. The effects of methane (CH4) in sheath gas on morphology, property and chemical composition of spheroidized tantalum powder were investigated. The spheroidized tantalum powder showed increased spheroidization ratios up to 99.9% by comparison to that of raw powder. Compared to spheroidized tantalum powder obtained in argon (Ar) or Ar + hydrogen atmosphere, a significant reduction in oxygen content from 600 ppm to less than 200 ppm was observed with the addition of CH4. Excessive CH4 addition of 1.5 L/min also caused a sharp increase in carbon content from 250 ppm to 3300 ppm. These findings indicate that the addition of CH4 in spheroidization is an effective way to reduce oxygen content of tantalum powder and expected to be applied to the spheroidization of other powders.

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