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Critical review on the tetracycline degradation using photo-Fenton assisted g-C3N4-based photocatalysts: Modification strategies, reaction parameters, and degradation pathway

石墨氮化碳 降级(电信) 光催化 四环素 化学 材料科学 环境修复 纳米技术 化学工程 催化作用 计算机科学 污染 有机化学 生态学 生物 生物化学 工程类 抗生素 电信
作者
Simran Sharma,Anita Sudhaik,Sonu Sonu,Pankaj Raizada,Tansir Ahamad,Sourbh Thakur,Quyet Van Le,Rangabhashiyam Selvasembian,Van‐Huy Nguyen,Ajay Kumar Mishra,Pardeep Singh
出处
期刊:Journal of environmental chemical engineering [Elsevier BV]
卷期号:12 (3): 112984-112984 被引量:80
标识
DOI:10.1016/j.jece.2024.112984
摘要

Over the years, the enormous use of tetracycline (TC) in pharmaceutical industries caused unwanted heap in the environment that led to the deterioration of human and ecological conditions. Therefore, the synergistic functioning of photo-Fenton and photocatalysis has been introduced which enables the regeneration of more •OH, •O2- species thereby enhancing the TC degradation performance of photocatalysts. Graphitic carbon nitride (g-C3N4) photocatalyst recently, gained massive consideration due to the suitable energy band gap, efficient preparation method, and physicochemical properties. However, due to some drawbacks, various modification strategies (doping, Z-Scheme, S-Scheme) have been adopted to perk up the degradation activity of bare g-C3N4. In the current review, we have provided insights into various modification strategies employed for g-C3N4 and reaction parameters for the effective remediation of tetracycline using photo-Fenton-assisted photocatalysis. The review further highlighted the potential of the integrated effect of g-C3N4-based photo-Fenton-assisted photocatalytic processes for achieving higher tetracycline removal efficiency followed by current challenges and future perspectives.
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