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Liquid-metal-printed buffer layer enabling offcut-tolerant MOCVD heteroepitaxy of β-Ga2O3 on sapphire

金属有机气相外延 材料科学 蓝宝石 缓冲器（光纤） 图层（电子） 光电子学 化学气相沉积 外延 薄膜 制作
作者
Song Zhang,Wenya Zhou,Yun Li,Yao Lu,Xinglin Liu,Rong Tu,Qiangmin Wei,Bao‐Wen Li
出处
期刊：Journal of Alloys and Compounds [Elsevier BV]
日期：2026-04-01 卷期号：: 188281-188281
标识
DOI：10.1016/j.jallcom.2026.188281
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