Band Alignment in MoS2/WS2 Transition Metal Dichalcogenide Heterostructures Probed by Scanning Tunneling Microscopy and Spectroscopy

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作者
Heather M. Hill,Albert F. Rigosi,Kwang Taeg Rim,George W. Flynn,Tony F. Heinz
出处
期刊:Nano Letters [American Chemical Society]
卷期号:16 (8): 4831-4837 被引量:284
标识
DOI:10.1021/acs.nanolett.6b01007
摘要

Using scanning tunneling microscopy (STM) and scanning tunneling spectroscopy (STS), we examine the electronic structure of transition metal dichalcogenide heterostructures (TMDCHs) composed of monolayers of MoS2 and WS2. STS data are obtained for heterostructures of varying stacking configuration as well as the individual monolayers. Analysis of the tunneling spectra includes the influence of finite sample temperature, yield information about the quasi-particle bandgaps, and the band alignment of MoS2 and WS2. We report the band gaps of MoS2 (2.16 ± 0.04 eV) and WS2 (2.38 ± 0.06 eV) in the materials as measured on the heterostructure regions and the general type II band alignment for the heterostructure, which shows an interfacial band gap of 1.45 ± 0.06 eV.
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