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作者
Hidekazu Takekoshi,Riki Ogawa,John G. Hartley,David J. Pinckeny,Atsushi Ando,Koichi Ishii,Chosaku Noda,Tadayuki Sugimori,Nobutaka Kikuiri
出处
期刊：Metrology, Inspection, and Process Control for Semiconductor Manufacturing XXXV
日期：2021-02-19
卷期号：: 86-86
摘要
Using a POC tool, we are continuing a feasibility study for an EUV mask pattern inspection tool having multibeam electron optics with D2D and D2DB functions. In this paper, we will discuss our technologies in addition to our latest results on our POC tool.
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