Complete Corrosion Inhibition through Graphene Defect Passivation

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作者
Ya‐Ping Hsieh,Mario Hofmann,K. W. Chang,Jian Gang Jhu,Yuan-Yao Li,Kuang Yao Chen,Chun‐Chieh Yang,Wen‐Sheng Chang,Li‐Chyong Chen
出处
期刊:ACS Nano [American Chemical Society]
卷期号:8 (1): 443-448 被引量:224
标识
DOI:10.1021/nn404756q
摘要

Graphene is expected to enable superior corrosion protection due to its impermeability and chemical inertness. Previous reports, however, demonstrate limited corrosion inhibition and even corrosion enhancement of graphene on metal surfaces. To enable the reliable and complete passivation, the origin of the low inhibition efficiency of graphene was investigated. Combining electrochemical and morphological characterization techniques, nanometer-sized structural defects in chemical vapor deposition grown graphene were found to be the cause for the limited passivation effect. Extremely fast mass transport on the order of meters per second both across and parallel to graphene layers results in an inhibition efficiency of only ∼50% for Cu covered with up to three graphene layers. Through selective passivation of the defects by atomic layer deposition (ALD) an enhanced corrosion protection of more than 99% was achieved, which compares favorably with commercial corrosion protection methods.

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