A Highly Hydroxylated 6-Tin Oxide Cluster Serves as An Efficient E-beam and EUV-Photoresist to Reach High-Resolution Patterns

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作者
C. H. Li,C. S. Chou,Yu‐Fang Tseng,B. N. Lin,Tsai-Sheng Gau,Po-Hsiung Chen,Po‐Wen Chiu,Sun‐Zen Chen,Shin‐Lin Tsai,Wen‐Bin Jian,Rai‐Shung Liu
出处
期刊:Nanoscale advances [Royal Society of Chemistry]
标识
DOI:10.1039/d4na00651h
摘要

A carboxylated-free cluster, formulated as (BuSn) 6 O 4 (OH) 10 (2), was synthesized from the reaction of (BuSn) 6 O 4 Cl 2 (MeCO 2 ) 8 (1) with LiOH (aq.) in cold tetrahydrofuran (THF).

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