A study on the classification of threading dislocations in GaN substrate by spot size using X-ray topography high-resolution image

位错 材料科学 单色 光学 同步加速器 结晶学 斑点 反射(计算机编程) 镶嵌 衍射 X射线晶体学 物理 计算机科学 复合材料 化学 物理化学 程序设计语言
作者
Masakazu Kanechika,S. Yamaguchi,Yoshihiro Kishida,Kosuke Kitazumi,Kazuhisa Isegawa,Yasuji Kimoto
出处
期刊:Japanese Journal of Applied Physics [Institute of Physics]
标识
DOI:10.35848/1347-4065/adb406
摘要

Abstract We studied the classification of threading dislocations in an ammonothermal GaN substrate by analyzing the spot size in dislocation images obtained via synchrotron back-reflection X-ray topography. The spot size reflects the lattice distortion or strain surrounding the dislocations, enabling us to categorize the dislocation types based on their respective spot sizes. To achieve this, we employed both a high-quality X-ray camera and a high monochromatic X-ray. Consequently, we classified the dislocations based on spot size in X-ray topography images using the 0008-reflection plane and experimentally determined that the small, middle and large spots correspond to edge dislocations, mixed dislocations with b = na + 1c (n=1, 2), and mixed dislocations with Burgers vectors with b = na + 2c (n=1, 2), respectively. This method is promising for the non-destructive classification of dislocations across an entire surface in a short time.
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