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Semiconductor WO3 thin films deposited by pulsed reactive magnetron sputtering

材料科学溅射半导体光电子学薄膜溅射沉积腔磁控管高功率脉冲磁控溅射工程物理纳米技术工程类

作者

Aneta Písaříková,Hana Krýsová,Anna Kapran,P. Písařík,Martin Čada,J. Olejníček,R. Hippler,Zdeněk Hubička

出处

期刊：Materials Science in Semiconductor Processing [Elsevier BV]
日期：2024-11-02 卷期号：186: 109034-109034

标识

DOI：10.1016/j.mssp.2024.109034

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