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Characterization of trap density in Indium-Gallium-Zinc-Oxide thin films by admittance measurements in multi-finger MOS structures

铟镓存水弯（水管）锌表征（材料科学）材料科学导纳光电子学纳米技术电气工程冶金物理工程类电阻抗气象学

作者

Hongwei Tang,Attilio Belmonte,Dennis Lin,Valeri Afanas’ev,Patrick Verdonck,Adrian Chasin,Harold Dekkers,Romain Delhougne,Jan Van Houdt,Gouri Sankar Kar

出处

期刊：Solid-state Electronics [Elsevier BV]
日期：2024-02-01 卷期号：214: 108866-108866 被引量：1

链接

kuleuven.bedoi.org

标识

DOI：10.1016/j.sse.2024.108866

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