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A Warpage Prediction Model for Trench Field-Plate Power MOSFET in 300mm-Diameter Process

MOSFET 沟槽功率MOSFET 过程（计算）材料科学领域（数学）电子工程工程类工程物理电气工程计算机科学晶体管电压复合材料数学操作系统纯数学图层（电子）

作者

Hiroaki Kato,Bozhou Cai,Jiuyang Yuan,Shin–ichi Nishizawa,Wataru Saito

出处

期刊：IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing [Institute of Electrical and Electronics Engineers]
日期：2025-02-19 卷期号：38 (2): 263-269 被引量：2

标识

DOI：10.1109/tsm.2025.3543133

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