Growth and characterization of SiGe/Si superlattice for vertically stacked DRAM

材料科学超晶格德拉姆表征（材料科学）光电子学工程物理纳米技术工程类

作者

Hailing Wang,Xiangsheng Wang,Yanpeng Song,Xiaomeng Liu,Ying Zhang,Xinyou Liu,Guilei Wang,Chao Zhao

出处

期刊：Journal of Materials Science: Materials in Electronics [Springer Nature]
日期：2025-01-01 卷期号：36 (2) 被引量：2

标识

DOI：10.1007/s10854-024-14167-y

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