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 Kinetic and gas-phase study of the chemical vapor deposition of silicon carbide from C2H3SiCl3/H2 C2H3SiCl3/H2化学气相沉积碳化硅的动力学和气相研究
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期刊：Journal of Industrial and Engineering Chemistry 作者：Anthony Desenfant; Guillaume Laduye; Gérard L. Vignoles; Georges Chollon 出版日期：2021-02-01 |
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