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[高分]
 Interface dipole engineering via TiO2-doped HfO2 interlayers for flat-band voltage modulation in scaled high-k gate stacks |
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期刊：Materials Science and Engineering: B 作者：Han-Fang Shiue; Hao-Chen Wu; Kian-Guan Lim; Chun-Ho Chuang; Chi-Lin Mo; Miin-Jang Chen 出版日期：2026 |
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