Atomic layer deposition of SiO2 to cap SiO2: Al stacks for modulation acceptor doping of silicon

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标题	Atomic layer deposition of SiO2 to cap SiO2: Al stacks for modulation acceptor doping of silicon
网址	https://doi.org/10.1116/6.0004879
DOI	10.1116/6.0004879 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A 作者：Somayeh Shams; Sourabh Seth; Thomas Köhler; Ingmar Ratschinski; Daniel Hiller 出版日期：2025
求助人	haxidou 在 2026-05-06 10:16:09 发布自中国，悬赏 10 积分
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