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Surface Pretreatment by Low-Temperature O2 Gas Annealing for Performance Improvement in Pt/β-Ga2O3 Schottky Barrier Diodes
相关领域
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网址
DOI
10.1109/ted.2023.3293456 doi
其它 期刊:IEEE Transactions on Electron Devices
作者:Haodong Hu; Yibo Wang; Xiaole Jia; Yuewen Li; Bochang Li; et al
出版日期:2023-07-17
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348847119 在 2025-10-25 16:33:18 发布自广东,悬赏 10 积分
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