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![]() 低温下在绝缘体上形成的高电子迁移率P掺杂多晶GeSn层
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期刊:Applied Physics Letters 作者:Koki Nozawa; Takamitsu Ishiyama; Takeshi Nishida; Noriyuki Saitoh; Noriko Yoshizawa; et al 出版日期:2023-05-15 |
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