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  Effects of mask absorber structures on the extreme ultraviolet lithography 掩模吸收剂结构对极紫外光刻的影响
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures Processing Measurement and Phenomena 作者：Hwan-Seok Seo; Dong‐Gun Lee; Hoon Kim; Sungmin Huh; Byung-Sup Ahn; et al 出版日期：2008-11-01 |
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