| 标题 |
 Choice of amines as stabilizers for chemically amplified resist systems 胺作为化学放大抗蚀剂体系稳定剂的选择
相关领域
抵抗
平版印刷术
聚合物
胺气处理
分散性
稳定器（航空）
材料科学
盐（化学）
化学工程
化学稳定性
激光线宽
纳米技术
化学
有机化学
高分子化学
光学
光电子学
激光器
机械工程
图层（电子）
工程类
物理
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Lawrence Ferreira; Sanjay Malik; Thomas R. Sarubbi; Andrew J. Blakeney; Brian Maxwell 出版日期：1998-06-29 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
cdercder
bc
归尘
冰魂
我是站长才怪
月下独酌42
斯寜
余味
糟糕的铁锤
nvatk16
sutharsons
MchemG
默默地读文献
遇上就这样吧
WSQ2130
顺心香菇
不倦
平常的毛豆
back you up
轻松小张
皖公网安备34019202002308
