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标题
Mist-CVD-derived Hf0.55Zr0.45O2 ferroelectric thin films post-annealed by rapid thermal annealing
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网址
https://doi.org/10.1063/5.0134375
AI链接 doi.org doaj.orgdoi.org
DOI
10.1063/5.0134375 doi
其它 期刊：AIP Advances
作者：S. Tanaka; Yuki Fujiwara; Hiroyuki Nishinaka; Masahiro Yoshimoto; Minoru Noda
出版日期：2023-01-01
求助人
langyu 在 2026-01-12 12:06:18 发布自福建，悬赏 10 积分
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